SELF-ETCH ADEZİV SİSTEMLERİN GENEL MONOMER YAPISI

Authors : Neslihan TEKÇE, Mustafa DEMİRCİ, Safa TUNCER, Dilan KARA

Pages : 443-449

Doi:10.17567/ataunidfd.473445

View : 23 | Download : 9

Publication Date : 2018-07-11

Article Type : Review Paper

Abstract :Dentin bağlayıcı sistemler, diş dokularına bağlanma mekanizmalarına göre sınıflandırılır. Bu sistemlerinin kimyasal formülleri kompozit restorasyonların klinik başarısını etkiler. Dentin bağlayıcı sistemler genel olarak; monomer, başlatıcı, inhibitör, çözücü ve doldurucu içerirler. Monomerler bağlanma mekanizmasındaki en önemli komponentlerden birisidir. Bu nedenle bu makalenin amacı; güncel dentin bağlayıcı sistemlerinin monomer içerikleri ve bu içeriklerin genel özelliklerini incelemektir. Anahtar Kelimeler:       Kendinden asitli insert ignore into journalissuearticles values(self-etch); bağlayıcı ajan, monomer   GENERAL MONOMER STRUCTURE OF SELF-ETCH ADHESIVE SYSTEMS ABSTRACT Dental adhesive systems are classified to bond mechanism to tooth structures. Their chemical formulation effects of clinical success of composite restorations. They generally contain resin monomers, initiators, inhibitors or stabilizers, solvents and filler. Monomers are the most important structure in adhesive composition. Therefore, the aim of this review was to examine the monomer contents of contemporary adhesive systems and general characteristics of these contents. Keywords: Self-etch adhesives, monomer
Keywords : Kendinden asitli self etch, bağlayıcı ajan