Diklofenak’ın Fotokimyasal İleri Oksidasyon Prosesleri ile Arıtılabilirliğinin Araştırılması

Authors : Sevda Hatun ALTIN, Sevde USTUN ODABASİ, Hanife BÜYÜKGÜNGÖR

Pages : 1110-1121

Doi:10.31202/ecjse.736420

View : 21 | Download : 7

Publication Date : 2020-09-30

Article Type : Research Paper

Abstract :Bu çalışmada seçilen ilaç, antienflamatuar yapıya sahip ilaçlar içerisinde en yüksek akut toksisitesi bulunan Diklofenak ilacıdır. Arıtım yöntemlerinden UV ve kombinasyonları insert ignore into journalissuearticles values(UV/H2O2, UV/TiO2, UV/ZnO); çalışılmıştır. Diklofenak içeren sentetik suyun UV, UV/H2O2, UV/TiO2 ve UV/ZnO yöntemleri ile 0-10-20-30-40-50-60.dakikalarda numune alınarak giderimi incelenmiştir. UV/H2O2 prosesi için 50, 100, 200, 400, 800 mg/L konsantrasyonlarında, UV/TiO2 ve UV/ZnO prosesleri için ise 40, 80, 160, 240, 320 mg/L konsantrasyonlarında farklı Diklofenak çözeltileri hazırlanmıştır. Çalışmada diklofenak konsantrasyonları LC-MS/MS ve TOK cihazları ile ölçülmüştür. Tüm proseslerde çalışma koşulları aynı kalmıştır. LCMS-MS analizinde UV prosesisi için Diklofenak giderim verimi %55,23, UV/H2O2 ile Diklofenak giderimi ise 200 mg/L H2O2 konsantrasyonunda %>99,99 bulunmuştur. TOK giderimi UV proseste %30,71, UV/H2O2 prosesinde ise en yüksek verim 800 mg/L’de %97 olarak bulunmuştur. UV/TiO2 ve UV/ZnO prosesi sonucunda TOK giderimi 320 mg/L’de sırasıyla %93,23 ve %96,10 bulunmuştur. LC-MS/MS analiz sonuçlarında ise 240 mg/L TiO2 ve ZnO konsantrasyonlarında Diklofenak giderimi %>99,99 olarak bulunmuştur. Sonuçlara göre UV prosesinin tek başına etkinliği %10-30 iken UV/ZnO, UV/TiO2, UV/H2O2 gibi kombinasyonlarında daha etkili giderim verimi elde edilmiştir. Maliyet açısından ise optimum proses UV/H2O2 insert ignore into journalissuearticles values(200 mg/L); prosesi bulunmuştur.
Keywords : Atıksu, Diklofenak, İleri Oksidasyon Prosesleri, LCMS MS, TOK