Mikronaltı Boyutlu Başlangıç Tozuyla Üretilen Y2O3 Katkılı Si3N4 Seramiklerde Sinterleme Proses Çevriminin Termal İletkenliğe Etkisi

Authors : Pinar UYAN

Pages : 1332-1342

Doi:10.31202/ecjse.755213

View : 12 | Download : 7

Publication Date : 2020-09-30

Article Type : Research Paper

Abstract :Elektronik cihazlarda ısı artışını kontrol ihtiyacı, yüksek termal iletkenlikli altlık malzemelerin üretilmesinin temel nedenini oluşturmaktadır. Si3N4 seramiklerde termal iletkenliği etkileyen parametrelerinin kontrolü ile bu endüstriyel uygulamalar için uygun özellikte malzemeler geliştirilebilir. Sinterleme sonrası mikroyapıda oluşan fazların türü miktarı ve dağılımı termal iletkenliği etkiler. Si3N4 seramiklerin termal iletkenliğine etki eden, bu mikroyapı özellikleri, sinterleme ilavelerine ve sinterleme tekniklerine bağlı olarak değişir. Bu çalışmada, Si3N4 başlangıç tozuna insert ignore into journalissuearticles values(<1 µm, %2 β);, Y2O3 ilave edilerek gaz basınçlı sinterleme insert ignore into journalissuearticles values(GPS); ile üretilmiş Si3N4 seramiklerin, sinterleme sonrası farklı soğutma çevrimlerinin, mikroyapı ve termal iletkenliğe etkisi araştırılmıştır. Termal iletkenlik, yavaş soğutma ile 42,69 W/m.K, hızlı soğutma ile 44,18 W/m.K elde edilmiştir. Yavaş soğutma ile yoğunluk azalmış, açık porozite artmış, termal iletkenlik ~% 3,5 oranında azalmıştır.
Keywords : Termal iletkenlik, GPS, Karakterizasyon