Sülfat ve hidroksil radikali bazlı fotokimyasal ileri oksidasyon prosesleri ile fenol giderimi

Authors : Çiğdem Bihter YAZICI, İrem ŞEKEROĞLU, Rafet Emir DUYGAN, Ceren İMREN, Tuğba ÖLMEZHANCI

Pages : 37-47

View : 24 | Download : 10

Publication Date : 2012-12-31

Article Type : Research Paper

Abstract :Toksik etkileri nedeni ile öncelikli kirleticiler arasında değerlendirilen fenolün persülfat/UV-C, peroksimonosülfat insert ignore into journalissuearticles values(PMS);/UV-C ve H2O2/UV-C fotokimyasal ileri oksidasyon prosesleri ile artımının incelendiği bu çalışmada her bir proses için ana madde insert ignore into journalissuearticles values(fenol); ve toplam organik karbon insert ignore into journalissuearticles values(TOK); giderim verimleri karşılaştırmalı olarak değerlendirilmiştir. Bununla birlikte, fenol kirleticisinin arıtımı sırasında oluşan oksidasyon ara ürünleri belirlenmiştir. Deneysel çalışmalardan elde edilen sonuçlar ışığında sülfat radikali bazlı fotokimyasal ileri oksidasyon prosesleri ile fenol oksidasyonunun yüksek verimler ile gerçekleştiği söylenebilmektedir. İncelenen fotokimyasal oksidasyon prosesi ile fenol gideriminin; görünür birinci dereceden kinetiğe uyum sağladığı belirlenmiştir. 48 mg/L insert ignore into journalissuearticles values(515 µM); fenol içeren sentetik olarak hazırlanmış numunelerde başlangıç oksidan dozajının artırılması ile çalışılan her üç proseste gerek fenol giderim/ileri oksidasyon hızları gerekse mineralizasyon mertebeleri belirgin şekilde artmıştır. Persülfat/UV-C prosesi için 0-30 mM konsantrasyon aralığında, en yüksek reaksiyon hız sabiti insert ignore into journalissuearticles values(0.2267 1/dk.); 30 mM persülfat konsantrasyonunda elde edilmiştir. PMS/UV-C ve H2O2/UV-C prosesleri için optimum başlangıç oksidan dozajları ise sırası ile 20 mM insert ignore into journalissuearticles values(0.3821 1/dk.); ve 30 mM insert ignore into journalissuearticles values(0.3585 1/dk.); olarak bulunmuştur. 5 mM oksidan dozajında H2O2/UV-C prosesi ile %87, persülfat/UV-C ve PMS/UV-C prosesleri ile sırası ile %65 ve %33’lük TOK giderim verimleri elde edilmiştir. Oksidan dozajının 20 mM değerine artışı ile persülfat/UV-C insert ignore into journalissuearticles values(30 dk.); ve H2O2/UV-C insert ignore into journalissuearticles values(50 dk.); prosesleri ile tam mineralizasyon insert ignore into journalissuearticles values(%100 TOK giderimi); sağlanmıştır. PMS/UV-C prosesi ile ise %97 mertebesinde TOK giderimi elde edilmiştir. Fenol kirleticisinin, sülfat ve hidroksil radikali bazlı fotokimyasal ileri oksidasyon prosesleri ile arıtımında oluşan oksidasyon ara ürünleri benzokinon, hidrokinon ve katekol olarak belirlenmiştir.
Keywords : Fenol, ileri oksidasyon prosesleri, persülfat UV C, peroksimonosülfat PMS, UV C, H2O2 UV C, oksidasyon ara ürünleri