Structural-crystalline, optical, topographical properties of ZnO thin film produced in presence of various oxygen

Authors : Asim MANTARCI

Pages : 423-431

Doi:10.17798/bitlisfen.886060

View : 19 | Download : 18

Publication Date : 2021-06-07

Article Type : Research Paper

Abstract :Farklı oksijen varlığında üretilen ZnO ince filmlerin büyüme koşullarındaki değişiklikler, filmlerin kristal, yüzey özellikleri ve soğurma özellikleri gibi önemli özellikleri üzerindeki değişiklikler incelenmiş ve raporlanmıştır. XRD deneysel sonuçlarından, filmlere uyguladığımız oksijenin filmlerin kristal yapı değişikliklerinde (tane boyutu, gerinim değeri, dislokasyon yoğunluğu vb.) rol oynadığı anlaşılmaktadır. En yüksek RMS pürüzlülük değeri 8.58 nm olarak akışsız filme karşılık gelir, en düşük RMS pürüzlülük değeri 1.08 nm ile 1 sccm akışlı filme karşılık gelir. AFM, üretilen filmlerde nano yapılı, sıkı paketlenmiş, tanecik özellikli filmler elde edildiğini kanıtladı. Yapılan UV analizinden çıkan sonuç, filme uygulanan oksijenin optik bant aralığı değerlerinde (yaklaşık 3.30-3.32 eV aralığında) küçük değişikliklere neden olduğudur. 3 sccm oksijen durumu dışında, elde edilen tüm filmler sıkıca paketlenmiş, tanecik yapılı ve neredeyse homojen olan ve nano özelliği açıkça görüldü. Elde edilen tüm sonuçlar, ZnO film işleminde uygulanan oksijenin filmin fiziksel özelliklerinde bir takım değişikliklere neden olduğunu ve bunun film kalitesine etki ettiğini göstermektedir ve bu sonuçların ZnO kullanan cihazların üretimine katkı sağlayabileceği görülmüştür
Keywords : ZnO, Oksijen, Dislokasyon yoğunuğu