- Dokuz Eylül Üniversitesi Mühendislik Fakültesi Fen ve Dergisi
- Volume:19 Issue:56
- MG KATKILI ZNO FİLMLERİNİN ÜRETİMİ VE KARAKTERİZASYONU
MG KATKILI ZNO FİLMLERİNİN ÜRETİMİ VE KARAKTERİZASYONU
Authors : Seniye KARAKAYA
Pages : 500-509
View : 29 | Download : 12
Publication Date : 2017-05-01
Article Type : Research Paper
Abstract :Son yıllarda, ZnO filmler zehirsiz olması, düşük maliyetli ve doğada bol bulunması gibi avantajlı özellikleri nedeniyle tercih edilen saydam iletken oksitler arasında yer almaktadırlar. Bu çalışmada, katkısız ve Mg katkılı ZnO filmleri mikroskop cam tabanlar üzerine, ekonomik ve kolay uygulanabilir bir yöntem olan ultrasonik kimyasal püskürtme tekniği ile 400±5oC taban sıcaklığında üretilmiştir. X-ışını kırınım desenlerinden, tüm filmlerin kristal yapısının hekzagonal yapıda olduğu belirlenmiştir. Filmlerin optik geçirgenlik spektrumu, görünür bölgede % 65 ile % 80 aralığında değişen geçirgenlik değerlerine sahip olduğunu göstermektedir. Optik metot kullanılarak elde edilen bant aralığı değerlerinin Mg katkısı ile birlikte arttığı görülmüştür. Filmlerin yüzey morfolojileri atomik kuvvet mikroskobu ile analiz edilmiş ve yüzey pürüzlülük değerleri belirlenmiştir. Yapılan bu çalışma ile farklı oranlarda Mg katkısının ZnO filmlerinin yapısal, optik ve yüzeysel özellikleri üzerine etkisi araştırılmış ve Mg katkılı ZnO filmlerinin optoelektronik uygulamalar için uygun malzemeler oldukları belirlenmiştir. Synthesis and Characterization of Mg Doped ZnO Thin FilmsKeywords : Mg Katkılı ZnO, Ultrasonik Kimyasal Püskürtme Tekniği, XRD, AFM
ORIGINAL ARTICLE URL