TRİKLOSANIN FOTO-FENTON OKSİDASYON YÖNTEMİ İLE PARÇALANMASI

Triklosan, antibakteriyel kişisel bakım ürünlerinde en çok kullanılan aktif maddelerden biridir ve son yıllarda kullanımı artmıştır. Bu çalışmada, triklosanın foto-Fenton yöntemi ile arıtılması ve yan ürünlerinin oluşumu araştırılmıştır. Triklosan, H2O2 ve Fe(II) konsantrasyonlarının triklosan giderimine olan etkileri, Box-Behnken istatistiksel deney tasarımı ve yüzey cevabı analizi kullanılarak araştırılmıştır. Triklosan derişiminin triklosan gideriminde H2O2 ve Fe(II) derişimlerinden daha etkin olduğu gözlenmiştir. Triklosan'ın tamamen parçalanması bir saatte gerçekleşirken tamamen mineralizasyonu gerçekleşmemiştir. 2,4Diklorofenol ve 2,4,6-Triklorofenol gibi bazı ara bileşiklerin oluştuğu gözlenmiştir. Foto-Fenton prosesinde, en yüksek triklosan giderimi (%98.5) için H2O2/Fe(II)/TCS oranının 50/2/0.1 olduğu saptanmıştır