TRİKLOSANIN FOTO-FENTON BENZERİ OKSİDASYON YÖNTEMİ İLE PARÇALANMASI

Triklosan, antibakteriyel kişisel bakım ürünlerinde en çok kullanılan aktif maddelerden biridir ve son yıllarda kullanımı artmıştır. Triklosanın sucul ortamda ki varlığı nedeniyle son yıllarda bu konularda çalışan araştırmacıların dikkatini çekmiştir. Bu çalışmada, triklosanın ileri oksidasyon yöntemlerinden fotoFenton yöntemi ile arıtılması ve yan ürünlerinin oluşumu araştırılmıştır. Triclosan, H2O2 ve Fe(III) derişimlerinin triklosan giderimine olan etkileri, Box-Behnken istatistiksel deney tasarımı ve yüzey cevabı analizi kullanılarak araştırılmıştır. Triklosan'ın tamamen parçalanması bir saatte gerçekleşirken tamamen mineralizasyonu gerçekleşmemiştir. 2,4-Diklorofenol ve 2,4,6Triklorofenol gibi bazı ara bileşiklerin oluştuğu gözlenmiştir. Foto-Fenton benzeri prosesinde, en yüksek triklosan giderimi (%97) için H22/Fe(III)/TCS oranının 50/5/5 olduğu saptanmıştır