Yalıtkan/Yarıiletken Ara Yüzeyin Kendiliğinden Biriken Tek katman Tekniği ile Organik Alan Etkili Transistör (OFET) Performansına Etkisi

Authors : Tuğbahan YILMAZ ALIÇ

Pages : 2019-2029

Doi:10.29130/dubited.554914

View : 13 | Download : 11

Publication Date : 2019-07-31

Article Type : Research Paper

Abstract :Kendiliğinden Birikme, yüzeylerin fonksiyonelleştilmesi için etkili bir teknilerden biridir. Kendiliğinden biriken moleküller (Self-assembled monolayers, SAM), iletken/yarıiletken ve yalıtkan/yarıiletken yüzeyler üzerine oluşturulabilir ve çeşitli teknolojik uygulamalarda kullanılmaktadır. Bu çalışmada, kendiliğinden biriken tek katman molekülleri kullanılarak Organik Alan Etkili Transistörlerin yalıtkan/yarıiletken ara yüzeyi fonksiyonelleştirilerek aygıt performansı arttırılması amaçlanmıştır.
Keywords : Ara yüzey modifikasyonu, Fenilboronik Asit PBA ve türevleri, Kendiliğinden Biriken Tekkatman, OFET