Elektrodepolama ile Üretilen CoNi Alaşım İnce Film Kaplamaların Yapısal ve Manyetik Özellikleri Üzerine Ek Katkı Maddelerinin Etkisi

Authors : Rasim ÖZDEMİR

Pages : 661-675

Doi:10.29109/gujsc.569110

View : 16 | Download : 11

Publication Date : 2019-09-27

Article Type : Research Paper

Abstract :Metallerin ve alaşımların elektrodepolanması bir veya daha fazla organik veya inorganik ek katkı maddeleri içerebilir. Ek katkılar; depolanan ince film kaplamaların yüzey morfolojisine, tane büyüklüğüne ve kristal yapısına etki etmektedir. Bu çalışmada CoNi alaşım ince film kaplamalar, katkı madde olmadan ve ek katkı maddeleri (organik kumarin ve tiyoüre) kullanılarak elektrodepolamayla üretildi. Ek katkısız depolanan CoNi alaşım ince film kaplamanın; kristal yapısının yüzey merkezli kübik (fcc) ve kaplama içeriğindeki kobalt miktarının % 67.94 olduğu bulundu. Banyo kompozisyonuna, kumarin katıldığında film içeriğindeki kobaltın % 43.82’ye, tiyoüre katıldığında %34.33’e düştüğü ve her iki filmin amorf özellik gösterdiği belirlendi. Uygulanan manyetik alan, -75000 Oe ile +75000 Oe arasında değiştirilerek, manyetizasyon değerleri ölçüldü ve histerezis eğrileri elde edildi. Katkı maddelerinin alaşım film içerisindeki madde miktarına, kristal yapıya ve manyetik özelliklere büyük etki ettiği görüldü.
Keywords : Ek katkılar, Kumarin ve tiyoüre, Kobalt nikel, İnce film, Manyetizasyon