INVESTIGATION OF THE EFFECT OF N2 GAS FLOW RATE ON THE OPTICAL, STRUCTURAL AND MORPHOLOGICAL PROPERTIES OF INDIUM-GALLIUM-NITRIDE TRIPLE THIN FILMS OBTAINED BY SPUTTER TECHNIQUE

Authors : Erman ERDOĞAN, Mutlu KUNDAKÇI

Pages : 1013-1022

Doi:10.28948/ngumuh.445524

View : 21 | Download : 13

Publication Date : 2018-07-20

Article Type : Research Paper

Abstract :Bu araştırma çalışmasında, InGaN insert ignore into journalissuearticles values(İndiyum Galyum Nitrür); üçlü bileşiği, saçtırma tekniği kullanılarak farklı N 2 gaz akış oranları altında büyütülmüştür. InGaN bileşiğinin yapısal, optik ve morfolojik özellikleri detaylı olarak incelenmiştir. XRD analizinde, filmler hegzagonal kristal yapı sergilemiştir. Filmler, görünür bölgede daha düşük dalga boylarında ortaya çıkmıştır ve soğurma değerleri, yaklaşık 550-560 nm`den itibaren keskin bir şekilde artmaya başlar ve Near-UV bölgesinde en yüksek soğurma değerine ulaşmıştır. Gaz akış hızı arttığında, filmin optik bant aralıkları artmıştır. SEM`de film, altlığın yüzeyi üzerindeki malzemenin boşluklar, iğne delikleri veya çatlaklar olmadan yoğun bir şekilde kaplanmasını göstermiştir. AFM sonuçlarında, yerel tepeler ve vadiler vardır ve kısmen homojen ve dairesel benzeri kümeler düzenlenmiştir. Filmler, cihaz uygulamalarında kullanım için uygun yapılardır.
Keywords : III V bileşikleri, saçtırma, azot gazı akışı, fiziksel özellikler, ince filmler