CVD VE PECVD TEKNİĞİ KULLANILARAK BAKIR FOLYOLAR ÜZERİNDE GRAFEN NANOYAPILARIN ELDE EDİLMESİ VE KARAKTERİZASYONU

Authors : Özkan BAYRAM, Erdal İĞMAN, Önder ŞİMŞEK

Pages : 1126-1134

Doi:10.28948/ngumuh.598128

View : 22 | Download : 12

Publication Date : 2019-07-31

Article Type : Research Paper

Abstract :   Bu çalışmada, CH 4 gazı kullanılarak bakır folyolar üzerinde grafen ince filmlerin sentezlenmesi amaçlanmıştır. İnce filmlerin elde edilebilmesi için plazma destekli kimyasal buhar biriktirme insert ignore into journalissuearticles values(PECVD); ve kimyasal buhar biriktirme insert ignore into journalissuearticles values(CVD); yöntemi kullanılmıştır. Bakır alt-taşlar, standart ön temizlik yapıldıktan sonra kuvars camdan yapılmış reaktöre yerleştirilmiştir. Vakum odasının taban basıncı 5-10 mTorr’a düşürüldükten ve hidrojen gazı ile tavlama işlemi yapıldıktan sonra, CH 4 gazı ortama gaz akış kontrol ünitesi yardımıyla gönderilmiştir. PECVD sisteminde; RF güç kaynağı insert ignore into journalissuearticles values(13,56 MHz);, kontrol ünitesi vasıtasıyla aktif hale getirilerek, üretilen enerji ortama gönderilmiştir. İşlem basıncı 100 mTorr, sıcaklık 600 ˚ C, RF gücü 50 W ve kaplama süresi ise 20 dakika olarak ayarlanmıştır. CVD tekniğinde ise, RF gücü ortadan kaldırılmış ve büyütme sıcaklığı 1000 ˚ C olarak belirlenmiştir. Elde edilen Grafen nanoyapıların karakterizasyonu için Raman, SEM ve TEM analizleri gerçekleştirilmiştir. Raman sonuçlarına göre, CVD yöntemiyle elde edilen yapılar, tek tabaka grafen yapısını doğrulamıştır. Bununla beraber PECVD tekniği ile tek tabaka grafen nanoyapılardan ziyade çok tabakalı yapı elde edildi.
Keywords : PECVD, CVD, Grafen, İnce Film