Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme

Authors : Mehmet Akif ERİŞMİŞ

Pages : 7-14

Doi:10.5505/apjes.2013.54264

View : 18 | Download : 9

Publication Date : 2013-04-01

Article Type : Research Paper

Abstract :Bu makale MEMS tabanlı mikro-ayna dizilerinin mikro-üretim adımlarında maske maliyetini azaltmak için maskesiz litografi elde etmek amaçlı kullanılması hakkında bir derleme sunmaktadır. Gelişmiş teknoloji nodlarıtla birlikte litografi maskelerini üretmek daha da pahalı olmaktadır. Özellikle EUV insert ignore into journalissuearticles values(ekstrim ultraviolet litografi); tekniğinde, maskesiz litografi kullanmak ihtiyacı daha da aşikar olmuştur. Maskesiz litografi adımlarına bir çözüm olması amacıyla, çeşitli üniversite ve şirketler dönen veya piston şeklinde mikro-ayna dizileri üretmiştir.
Keywords : Mikro ayna dizileri, Maskesiz litografi, MEMS