Investigation of Copper-Iron Oxide Thin Film Grown by Co-Sputtering

Authors : Sevda SARITAŞ

Pages : 625-633

Doi:10.17798/bitlisfen.1251421

View : 33 | Download : 37

Publication Date : 2023-09-28

Article Type : Research Paper

Abstract :Bu çalışmada, sırasıyla DC magnetron ve RF magnetron püskürtme ile demir oksit ve bakır oksit yapıları büyütülmüş ve CuxFe3-xO4 yapısı ise birlikte püskürtme insert ignore into journalissuearticles values(Co-sputtering); ile büyütülmüştür. Büyütülmüş ince filmlerin yapısal optik ve topografik incelemeleri detaylı olarak yapılmıştır. İnce filmlerin absorpsiyon ölçümleri, oda sıcaklığında Perkin Elmer UV/Visible Lambda 2S spektrometresi yardımıyla alınmıştır. Cam üzerine büyütülen Fe2O3, CuxFe3-xO4, Cu2O ince filmin insert ignore into journalissuearticles values(ahυ);2 insert ignore into journalissuearticles values(cm-1 eV2); karşı enerji grafiğinde çizilen fit ile yasak bant aralığı enerjisinin değeri sırasıyla 2.44, 2.39, 2.55 eV olarak hesaplanmıştır. Ayrıca ince film yapılarının yapısal ve topografik özellikleri, taramalı elektron mikroskobu insert ignore into journalissuearticles values(SEM);, atomik kuvvet mikroskobu insert ignore into journalissuearticles values(AFM);, X-ışını kırınımı insert ignore into journalissuearticles values(XRD);, X-ışını fotoelektron spektroskopisi insert ignore into journalissuearticles values(XPS); ve Raman spektroskopisi ile incelenmiştir. XPS sonuçlarına göre; Fe3+ insert ignore into journalissuearticles values(Fe2O3); iyonu 2p3\\2 orbitalinin için bağlanma enerjileri 710.85 eV ve Fe3+ iyonu insert ignore into journalissuearticles values(CuxFe3-xO4); için 712.49 eV\`dir. Cu1+ iyonu insert ignore into journalissuearticles values(Cu2O); için 2p3\\2 orbitalinin bağlanma enerjisi 933,64 eV\`dir ve Cu2+ iyonu insert ignore into journalissuearticles values(CuxFe3-xO4); için 935,58 eV\`dir. O2- iyonların 1s orbitalinin bağlanma enerjisi Fe2O3, CuxFe3-xO4, Cu2O için sırasıyla 530, 528 ve 532 eV\`dir.
Keywords : Copper oxide, iron oxide, thin film, Co sputtering