TRİKLOSANIN FOTO-FENTON OKSİDASYON YÖNTEMİ İLE PARÇALANMASI

Home Page
About
Submit A Journal
Submit A Conference
Submit Paper/Book
- Submit a Preprint
- Submit a Book
Contact

Dokuz Eylül Üniversitesi Mühendislik Fakültesi Fen ve Dergisi
Volume:19 Issue:56
TRİKLOSANIN FOTO-FENTON OKSİDASYON YÖNTEMİ İLE PARÇALANMASI

TRİKLOSANIN FOTO-FENTON OKSİDASYON YÖNTEMİ İLE PARÇALANMASI

Authors : Ebru ÇOKAY, Merve ÖZTAMER

Pages : 569-582

View : 37 | Download : 11

Publication Date : 2017-05-01

Article Type : Research Paper

Abstract :Triklosan, antibakteriyel kişisel bakım ürünlerinde en çok kullanılan aktif maddelerden biridir ve son yıllarda kullanımı artmıştır. Bu çalışmada, triklosanın foto-Fenton yöntemi ile arıtılması ve yan ürünlerinin oluşumu araştırılmıştır. Triklosan, H2O2 ve Fe(II) konsantrasyonlarının triklosan giderimine olan etkileri, Box-Behnken istatistiksel deney tasarımı ve yüzey cevabı analizi kullanılarak araştırılmıştır. Triklosan derişiminin triklosan gideriminde H2O2 ve Fe(II) derişimlerinden daha etkin olduğu gözlenmiştir. Triklosan'ın tamamen parçalanması bir saatte gerçekleşirken tamamen mineralizasyonu gerçekleşmemiştir. 2,4Diklorofenol ve 2,4,6-Triklorofenol gibi bazı ara bileşiklerin oluştuğu gözlenmiştir. Foto-Fenton prosesinde, en yüksek triklosan giderimi (%98.5) için H2O2/Fe(II)/TCS oranının 50/2/0.1 olduğu saptanmıştır
Keywords : Box Behnken yöntemi, Foto Fenton prosesi, Triklosan

ORIGINAL ARTICLE URL

* There may have been changes in the journal, article,conference, book, preprint etc. informations. Therefore, it would be appropriate to follow the information on the official page of the source. The information here is shared for informational purposes. IAD is not responsible for incorrect or missing information.