TRİKLOSANIN FOTO-FENTON BENZERİ OKSİDASYON YÖNTEMİ İLE PARÇALANMASI

Home Page
About
Submit A Journal
Submit A Conference
Submit Paper/Book
- Submit a Preprint
- Submit a Book
Contact

Dokuz Eylül Üniversitesi Mühendislik Fakültesi Fen ve Dergisi
Volume:19 Issue:56
TRİKLOSANIN FOTO-FENTON BENZERİ OKSİDASYON YÖNTEMİ İLE PARÇALANMASI

TRİKLOSANIN FOTO-FENTON BENZERİ OKSİDASYON YÖNTEMİ İLE PARÇALANMASI

Authors : Ebru ÇOKAY, Merve ÖZTAMER

Pages : 583-598

View : 32 | Download : 6

Publication Date : 2017-05-01

Article Type : Research Paper

Abstract :Triklosan, antibakteriyel kişisel bakım ürünlerinde en çok kullanılan aktif maddelerden biridir ve son yıllarda kullanımı artmıştır. Triklosanın sucul ortamda ki varlığı nedeniyle son yıllarda bu konularda çalışan araştırmacıların dikkatini çekmiştir. Bu çalışmada, triklosanın ileri oksidasyon yöntemlerinden fotoFenton yöntemi ile arıtılması ve yan ürünlerinin oluşumu araştırılmıştır. Triclosan, H2O2 ve Fe(III) derişimlerinin triklosan giderimine olan etkileri, Box-Behnken istatistiksel deney tasarımı ve yüzey cevabı analizi kullanılarak araştırılmıştır. Triklosan'ın tamamen parçalanması bir saatte gerçekleşirken tamamen mineralizasyonu gerçekleşmemiştir. 2,4-Diklorofenol ve 2,4,6Triklorofenol gibi bazı ara bileşiklerin oluştuğu gözlenmiştir. Foto-Fenton benzeri prosesinde, en yüksek triklosan giderimi (%97) için H22/Fe(III)/TCS oranının 50/5/5 olduğu saptanmıştır
Keywords : Box Behnken yöntemi, Foto Fenton benzeri prosesi, Triklosan

ORIGINAL ARTICLE URL

* There may have been changes in the journal, article,conference, book, preprint etc. informations. Therefore, it would be appropriate to follow the information on the official page of the source. The information here is shared for informational purposes. IAD is not responsible for incorrect or missing information.