Fonksiyonel gruplu polistirenlerin fotolitografik özelliklerinin incelenmesi

Authors : Alaaddin CERİT

Pages : 993-1000

View : 30 | Download : 8

Publication Date : 2022-12-30

Article Type : Research Paper

Abstract :Bu çalışmada farklı molekül kütleli PS’lerin fonksiyonel modifikatörlerle insert ignore into journalissuearticles values(maleik anhidrit insert ignore into journalissuearticles values(MA); ve asetik anhidrit insert ignore into journalissuearticles values(AA););, BF3Oinsert ignore into journalissuearticles values(C2H5);2 katalizörlüğünde optimum reaksiyon şartlarında kimyasal modifikasyonu yapılmış ve aromatik halkasına aktif fonksiyonel gruplar insert ignore into journalissuearticles values(MAPS: -CO-CH=CH-COOH ve AAPS: -CO-CH3); bağlanmıştır. Sentezlenen modifiye PS’lere bağlanan karboksil ve asetil grupların yapısına bağlı olarak fotolitografik özellikleri, çözünürlük tayini ve FTIR analizi ile incelenmiş ayrıca sensibilizatör-aktivatör borneol maddesinin fotolitografik özellikler üzerindeki etkisi araştırılmıştır. Sonuçta optimum reaksiyon şartları PS: modifikatör mol oranı 1:0.2; modifikatör: katalizör mol oranı 1:1 olarak bulunmuş ve düşük molekül ağırlıklı PS’lerin yapısına daha fazla fonksiyonel grup bağlandığı tespit edilmiştir. Modifiye PS’lerin toluende PS’ye göre daha az çözündüğü insert ignore into journalissuearticles values(sırasıyla %70.04 ve %85.48); tesbit edilmiştir. Işınlamadan sonra yapılan çözünürlük testlerinde en iyi değer %54.51 ile MAPS’den elde edilirken AAPS’nin çözünürlük değerlerinde dikkate değer bir değişim olmamıştır insert ignore into journalissuearticles values(%83.46);. Borneol maddesinin ilavesinden sonra yapılan ışınlama işlemiyle MAPS’nin çözünürlük değeri %49.67’ye kadar düşerken, AAPS’nin çözünürlük değerlerinde önemli bir değişim olmamıştır insert ignore into journalissuearticles values(%84.50);. Ayrıca MAPS’lerde ışınlama süresine bağlı olarak çözünürlük değerlerinde azalma gözlemlenirken bu durum AAPS’lerde görülmemiştir. UV ışınlama sonrasında MAPS’lerin çözünürlüğündeki azalma MAPS’lerin ışığa duyarlılık özelliği gösterdiğini ve ışınlama etkisiyle çapraz bağlanma yeteneğine sahip negatif fotorezist olduğunu göstermiştir. Borneol’ün de fotorezist özelliği desteklediği görülmüştür. AAPS’ler ise PS’ye göre daha düşük çözünürlük değerleri vermesine karşın UV-ışınlamadan sonra çözünürlük değerlerinde dikkate değer bir değişiklik görülmemiş ve AAPS’lerin fotorezist özellik göstermediği belirlenmiştir.
Keywords : Fotorezist, polistiren, modifikasyon, anhidrit

ORIGINAL ARTICLE URL